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武漢光谷實驗室攻克成像芯片新技術

來源:智匯工業(yè)

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所屬頻道:新聞中心

關鍵詞:芯片

          據(jù)中國光谷3月7日消息,光谷實驗室宣布,其科研團隊研發(fā)的膠體量子點成像芯片已實現(xiàn)短波紅外成像,面陣規(guī)模30萬、盲元率低于6‰、波長范圍0.4-1.7微米、暗電流密度小于50nA/cm2、外量子效率高于60%,性能優(yōu)越。

      相關負責人表示,這一技術的核心優(yōu)勢有:圖像分辨率高,理論上像素尺寸僅受限于艾利斑直徑;溶液法低溫加工,與任何形貌的基底均兼容;探測波段高度可定制化,探測波段不受襯底吸收影響;可大面積加工,兼容12寸CMOS晶圓制備工藝 ,同時成本極低。

      消息稱,光谷實驗室團隊通過4年時間,全力攻關量子點技術,通過低溫的溶液法制備工藝,實現(xiàn)可與硅基芯片一體化集成的量子點短波紅外成像芯片,其探測波段范圍遠超傳統(tǒng)銦鎵砷芯片,同時制造成本僅不到近百分之一。極大的成本優(yōu)勢,讓量子點芯片有望推開新市場的大門。


    (審核編輯: 智匯lucy)

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