?2021年7月 28日 –－ 全球領(lǐng)先的科技公司默克日前宣布推出新一代環(huán)保精密清洗溶劑產(chǎn)品  －－ AZ? 910 去除劑。該系列產(chǎn)品用于半導體芯片制造圖形化工藝中清除光刻膠。

光刻膠去除是半導體芯片制造圖形化環(huán)節(jié)中的關(guān)鍵技術(shù)，而光刻膠去除劑則是決定圖形化最終良率及可靠性的關(guān)鍵材料之一。默克此次推出的“AZ? 910 去除劑”基于不含有NMP（N－甲基吡咯烷酮）的新型特制化學配方，不僅可以快速溶解殘留光刻膠，同時具備超高的經(jīng)濟性、出色的環(huán)保性和廣泛的適用性。

該創(chuàng)新產(chǎn)品可直接溶解負性和正性光刻膠，而并非像傳統(tǒng)NMP清洗劑那樣只能將其從晶圓表面剝離。清洗工藝能因此能縮短近一半時間，同時延長相關(guān)材料和過濾設(shè)備的使用壽命，從而幫助芯片廠商降低總體成本。

默克半導體材料事業(yè)部全球負責人Anand Nambiar表示：“這是一種同時具備了環(huán)保性和經(jīng)濟性的創(chuàng)新解決方案，將更好地滿足下一代半導體制造工藝中精密清洗需求。這款A(yù)Z? 910去除劑能夠以不到三倍的溶劑用量清除光刻膠，在為晶圓廠節(jié)省成本的同時也減少了廢料對環(huán)境的影響?！?/span>

高純度去除劑在芯片制造過程正發(fā)揮著十分重要的作用。每當各種材料被轉(zhuǎn)移到硅片上后，都需要將硅片表面不需要的殘留物精密清除。隨著芯片制造工藝不斷微型化，整個行業(yè)對更高性能且綠色環(huán)保去除劑的需求也在與日俱增。默克是全球半導體去除劑市場的重要成員之一，其研發(fā)的溶劑產(chǎn)品涵蓋了半導體光刻工藝的所有步驟。此外，憑借在電子材料領(lǐng)域100多年的專業(yè)經(jīng)驗，默克目前為中國大陸100多家芯片制造企業(yè)供應(yīng)著超過150余種材料產(chǎn)品，覆蓋其晶圓加工的每一個環(huán)節(jié)。

關(guān)于默克

默克是一家領(lǐng)先的科技公司，專注于醫(yī)藥健康、生命科學和電子科技三大領(lǐng)域。全球有57，000多名員工服務(wù)于默克，通過創(chuàng)造更加愉悅和可持續(xù)性的生活方式，為數(shù)百萬人的生活帶來積極的影響。從先進的基因編輯技術(shù)和發(fā)現(xiàn)治療最具挑戰(zhàn)性疾病的獨特方法，到實現(xiàn)設(shè)備的智能化——默克無處不在。2020年，默克在66多個國家的總銷售額達175億歐元。

科學探索和負責任的企業(yè)精神一直是默克科技進步的關(guān)鍵，也是默克自1668年以來永葆活力的秘訣。默克家族作為公司的創(chuàng)始者至今仍持有默克大部分的股份，我們在全球都叫“默克”，僅美國和加拿大例外。默克的三大領(lǐng)域：醫(yī)藥健康、生命科學及電子科技在這兩個國家分別稱之為“EMD Serono”、“MilliporeSigma”和“EMD Electronics”。默克在中國已經(jīng)有80多年發(fā)展歷史，目前有超過4，200名員工，并在北京、上海、香港、無錫、蘇州和南通擁有20多個注冊公司。