媒體日前從中科院光電技術(shù)研究所獲悉，該所微電子專用設(shè)備研發(fā)團隊已自主研制出一種新型紫外納米壓印光刻機，其成本僅為國外同類設(shè)備1/3，將有力推進我國芯片加工等微納級結(jié)構(gòu)器件制造水平邁上新的臺階。

　　光刻機是微納圖形加工的專用高端設(shè)備。光電所微電子裝備總體研究室主任胡松介紹，這套設(shè)備采用新型納米對準(zhǔn)技術(shù)，將原光刻設(shè)備的對準(zhǔn)精度由亞微米量級提升至納米量級。

　　對準(zhǔn)是光刻設(shè)備三大核心指標(biāo)之一，是實現(xiàn)功能化器件加工的關(guān)鍵。胡松表示，在國家自然基金的連續(xù)資助下，光電所研究團隊完成了基于莫爾條紋的高精度對準(zhǔn)技術(shù)自主研發(fā)，取得專利20余項。該技術(shù)在光刻機中的成功應(yīng)用，突破了現(xiàn)有納米尺度結(jié)構(gòu)加工的瓶頸問題，為高精度納米器件的加工提供了技術(shù)保障，未來可廣泛應(yīng)用于微納流控芯片加工、微納光學(xué)元件、微納光柵等微納結(jié)構(gòu)器件的制備，目前該設(shè)備已完成初試和小批生產(chǎn)。